Электронно-лучевая литография отличается от фото- и EUV- литографий экспонирующим излучением. Это уже не электромагнитные волны, а поток заряженных частиц. Электроны – очень лёгкие частицы (в 2000 раз легче протонов, при той же величине электрического заряда). Поэтому пучком электронов достаточно легко управлять (разгонять, фокусировать, отклонять) с помощью специальных электромагнитных систем. Попадая в резист электроны рассеиваются, заряжают его и подложку. Это, конечно, ухудшает качество (чёткость) «изображения» в резисте. Но с этим можно бороться. В результате разрешение в электронной литографии гораздо выше, чем фотолитографии.
Главная «проблема» электронной литографии – производительность. «Рисование» электронным лучом не может сравниться по скорости с оптическим «печатаньем по трафарету». Однако, высокое разрешение сделало электронную литографию незаменимой в производстве (например, масок для фотолитографии).
