симулятор

Видео-демонстрация основных возможностей vmCompLith 

Немного истории

Мне повезло: с 1987 года и до выхода на пенсию я занимался одним, увлекательным и интересным для меня делом - моделированием технологии литографии. В 2008 году для проверки некоторых идей мной была разработана оригинальная программа-симулятор оптической литографии. Основными задачами были: оптимизация производиткльности алгоритма и точности вычислений. Также рассматривалась проблема моделирования элементов масок произвольной формы (all-angle mask). Ещё были рассмотрены различные способы анализа изображения маски и числовые характеристики качества изображения. Эта работа, а также обобщение накопленных данных и результатов моделирования, были представлены на конференции SPIE по Оптической Микролитографии в 2009 году.  / Manuylov, Vadim. Advanced Model and Fast Algorithm for Aerial Image Computation with Well Controlled Accuracy. Proceedings of the SPIE, Volume 7274, p. 727431(2009) /

Затем симулятор был расширен возможностями оптимизации маски (OPC - optical proximity correction) и снабжён графическим интерфейсом. Я успешно использовал его на собеседованиях в Luminiscent, Global Foundries, Cadence, Mentor Graphics и Brion-ASML. Презентация симулятора делала интервью более интересным - переводила в режим дискуссии.

Недавно я нашел мой симулятор в своих архивах и решил восстановить / обновить и сделать его доступным для тех, кому он интересен. Исходный код vmCompLith можно скачать (ссылки ниже). Для сборки необходмы Qt 5.12 или Qt 6.2 и С++.

Конечно, современная технология на основе EUV намного сложнее, новые инструменты моделирования позводяют изучать гораздо более тонкие эффекты... Однако, возможно, vmCompLith будет полезен для обучения и/или, чтобы проиллюстрировать основные эффекты, проблемы и подходы в литографии и т. д.